| 品牌 | 霍爾德?電子 | 產地 | 國產 |
|---|---|---|---|
| 分散方式 | 干濕法分散 | 儀器種類 | 激光光阻法 |
濕法激光粒度分析儀采用的Mie氏散射原理和會聚光傅立葉變換光路，傅里葉變換鏡頭+濾波鏡頭雙鏡頭技術的采用保證了儀器的測量精度，高密度陣列探頭及全量程無縫銜接測試方法,保證了測試結果的準確性和重復性。特別的濕法循環分散系統采取了管道無殘留設計，保證顆粒測試過程中無顆粒沉積現象，測試排水后無廢液積存現象，不但證了測試不同樣品的準確性，還保證了第二次測試精度,使測試結果更真實可靠。
適用范圍：
儀器被廣泛應用于各種金屬、非金屬粉：如重鈣、輕鈣、滑石、高嶺土、石墨、硅灰石、水鎂石、重晶石、云母粉、膨潤土、硅藻土、黏士、二氧化硅、石榴石、硅酸錯、氧化錯、氧化鎂.氧化鋅、河流泥沙、鋰電池材料、催化劑、熒光粉、水泥、磨料、醫藥、農藥、食品、涂料、染料、陶瓷原料、化工材料、納米材料、造紙填料涂料、各種乳液等。
濕法激光粒度分析儀產品參數：
測量原理：全量程激光衍射；
粒徑范圍：0.1um~800μm(全量程測試)；
探測系統：70通道均勻交叉及面積補償多方位陣列；
激光器：進口大功率光纖輸出半導體激光器，波長635nm、功率最大20mw；
光學模型：全量程米氏散射理論，包含高濃度多重散射動態補償技術；
濾波方式：雙鏡頭濾波技術，傅里葉變換鏡頭＋濾波鏡頭；
采集主板：高速采集主板(10000次/秒)；
濃度范圍：遮光度3%，最高遮光度90%(光學濃度)；
樣品池：特殊鍍膜工藝處理，光信號透過率>99.7%
光學對中系統：機械中心+光學中心雙定位全自動對中系統；
測量時間：典型值<10秒；
測量精度：準確性、重復性Dv50均優于±0.5%(NIST可溯源標準樣品)；
測量方式：SOP可編輯全自動測量；
環境溫度：0°℃-45°℃；
環境濕度：10%-85%相對濕度(無結凝)；
電源要求：220V(±20V)，50Hz-60Hz；
執行標準：GB/T19077-2016/ISO13320:2009；
外觀尺寸：800mm×280mm×335mm；
儀器重量：38kg。
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